薄膜生長

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氧化物分子束外延系統
費密儀器科技在Oxide MBE 系統上具有多年的經驗,曾經設計和搭建了國內首套與表面分析儀器無縫連接的Oxide MBE設備,并生長出了高質量的單晶樣品。

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臭氧提純系統
臭氧(O3)是氧氣(O2)的同素異形體,密度為氧氣的1.5倍,凝固點和沸點均高于氧氣。臭氧具有很強的氧化性,因此在化學合成中具有很多的應用,例如在Oxide MBE上,臭氧可以替代傳統的等離子源來完成薄膜的氧化,同時避免了等離子源對表面的損壞,可以得到更高質量的單晶。同時臭氧的強氧化性也使得氧化物的生長可以在更高的真空度下進行,也能提高生長薄膜的純度和晶體質量。

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CUBIC 分子束外延系統

產品特點

  • Cubic-200分子束外延生長系統由一體成型的不銹鋼腔體組成,無焊接部分,確保了最低的泄露可能性;
  • 6個CF100和8個CF40的超高真空標準法蘭接口,滿足了分子束外延生長各項部件的安裝需求;
  • 配有300L/s抽速全磁懸浮分子泵及無油前級機械泵,全量程真空規(或離子規),INFICON(或Lesker)膜厚測量儀,4軸高溫樣品架,最多可裝配7個蒸發源,滿足多種原子層級別薄膜材料的生長需求。

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